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dc.contributor.advisor1Rodrigo Gribel Lacerdapt_BR
dc.contributor.advisor1Latteshttp://lattes.cnpq.br/9333015140693096pt_BR
dc.contributor.referee1Rodrigo Gribel Lacerdapt_BR
dc.contributor.referee2Juan Carlos González Pérezpt_BR
dc.contributor.referee3Wagner Nunes Rodriguespt_BR
dc.contributor.referee4Fernando Lázaro Freire Júniorpt_BR
dc.contributor.referee5Rodrigo Garcia Amorimpt_BR
dc.creatorCintia Lima Pereirapt_BR
dc.creator.Latteshttp://lattes.cnpq.br/6416599832107470pt_BR
dc.date.accessioned2019-12-06T20:52:14Z-
dc.date.available2019-12-06T20:52:14Z-
dc.date.issued2019-05-09-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/1843/31459-
dc.description.abstractThis work aims to study the interaction of molecular hydrogen with graphene field effect transistors. We show that H2 generates a local doping in graphene in the vicinity of the heterojunction formed by graphene-contact. Moreover, this interaction is strongly dependent on the characteristics of the metal-graphene interface. When investigating different types of metal contacts, being these Au, Au / Cr, Au / TiOx and Au /Cr2O3, it is observed that they can be both strongly and weakly coupled to electrostatically graphene. Thus, for contacts strongly coupled to graphene, the exposure to hydrogen generates an inversion in the asymmetry of the resistance curves as a function of the gate voltage. The asymmetry in the curves in the absence of H2 is observed for all cases studied in which the contacts are projected on graphene in the invasive geometry. Its origin comes from the local doping generated by the difference between the work functions of the graphene and contact, in addition to the electrostatic doping generated by the application of the gate voltage. The hydrogen, in this case, acts modulating the pn junction formed at the interface, causing the inversion of the observed asymmetry. While for contacts weakly coupled to graphene, exposure to hydrogen manifests itself with the formation of a second charge neutrality point. We propose in this work that this phenomenon happens due to the decoupling between the work functions of graphene and metallic contacts, such that the carrier density in both the conduction channel region and the region of the metal contacts can be modulated by applying the gate potential, generating the two charge neutrality points. We studied the relationship of this phenomenon with the geometry of the device, also with the hydrogen concentration and exposure temperature. The results indicate a completely reversible gas induced doping under all interfaces conditions under study. This behavior indicating a controlled way of creating a p-n junction in graphene, generating a significant variation of resistance that will be explored in the development of high-performance hydrogen sensors.pt_BR
dc.description.resumoEste trabalho tem como objetivo estudar a interação do hidrogênio molecular (H2) com transistores de efeito de campo de grafeno. Demonstramos que o H2 dopa localmente o grafeno nas proximidades da heterojunção formada por grafeno-contato. Além disso, esta interação é fortemente dependente das características da interface metal-grafeno. Ao investigar diferentes tipos de contatos metálicos, sendo estes Au, Au/Cr, Au/TiOx e Au/Cr2O3, observa-se que eles podem estar tanto fortemente quanto fracamente acoplados ao grafeno eletrostaticamente. Deste modo, para contatos fortemente acoplados ao grafeno, a exposição ao H2 gera uma inversão na assimetria das curvas de resistência em função do potencial de porta. Esta assimetria nas curvas é observada para todos os casos estudados na ausência de H2 em que os contatos metálicos estão projetados sobre o grafeno na geometria invasiva. Sua origem vem da dopagem local gerada pela diferença entre as funções trabalho do grafeno e contato, somada a dopagem eletrostática gerada pela aplicação do potencial de porta. O hidrogênio molecular, neste caso, modula a junção p-n formada na interface, que causa a inversão da assimetria observada. Contudo, para contatos fracamente acoplados ao grafeno, a exposição ao hidrogênio se manifesta com a formação de um segundo ponto de neutralidade de cargas. Propusemos neste trabalho que este fenômeno acontece devido ao desacoplamento entre as funções trabalho do grafeno e contatos metálicos, de tal modo que a densidade de portadores tanto na região do canal de condução quanto na região dos contatos metálios pode ser modulada pela aplicação do potencial de porta, gerando os dois pontos de neutralidade. Estudamos a relação desse fenômeno com a geometria do dispositivo, com a concentração de hidrogênio e temperatura de exposição. Os resultados mostram uma dopagem completamente reversível induzida pelo gás em todas as condições de interface estudadas. Esse comportamento aponta uma forma controlada de criar uma junção p-n em grafeno, que gera uma variação significativa de resistência, explorada no desenvolvimento de sensores de hidrogênio com alto desempenhopt_BR
dc.description.sponsorshipCNPq - Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológicopt_BR
dc.description.sponsorshipFAPEMIG - Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de Minas Geraispt_BR
dc.description.sponsorshipCAPES - Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superiorpt_BR
dc.languageporpt_BR
dc.publisherUniversidade Federal de Minas Geraispt_BR
dc.publisher.countryBrasilpt_BR
dc.publisher.departmentICX - DEPARTAMENTO DE FÍSICApt_BR
dc.publisher.programPrograma de Pós-Graduação em Físicapt_BR
dc.publisher.initialsUFMGpt_BR
dc.rightsAcesso Abertopt_BR
dc.subjectSensores de gaspt_BR
dc.subjectGrafenopt_BR
dc.subjectNanomateriaispt_BR
dc.subject.otherSensores de gáspt_BR
dc.subject.otherGrafenopt_BR
dc.subject.otherNanomateriaispt_BR
dc.titleEstudo da interação do hidrogênio molecular com dispositivo de grafeno e sua aplicação em sensores de gáspt_BR
dc.typeTesept_BR
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