Nanoestruturas de siliceto de ferro crescidas sobre Si(111) utilizando epitaxia por deposição reativa

Marcos Aurelio Duarte Carvalho

Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/1843/ESCZ-7AWFLU

Type:	Dissertação de Mestrado
Title:	Nanoestruturas de siliceto de ferro crescidas sobre Si(111) utilizando epitaxia por deposição reativa
Authors:	Marcos Aurelio Duarte Carvalho
First Advisor:	Juan Carlos Gonzalez Perez
First Referee:	Marcus Vinicius Baeta Moreira
Second Referee:	Franklin Massami Matinaga
Third Referee:	Roberto Magalhaes Paniago
Abstract:	Recentemente a fase semicondutora -FeSi2 tem recebido considerável atenção pelo fato de apresentar, quando tensionada, gap direto de aproximadamente 0,87 eV, emitindo luz eficientemente num comprimento de onda de 1,5 µm[1-6]. Estruturas tensionadas de -FeSi2, por sua vez, podem ser obtidas a partir da fabricação de nanoestruturas auto-construídas sobre substratos de silício [7-9]. Neste trabalho são apresentados os resultados do crescimento de nanoestruturas de siliceto de ferro sobre substratos de Si (111) pela técnica de Epitaxia por Deposição Reativa. Esse estudo aborda a influência da quantidade de ferro depositada sobre esses substratos e do tempo de recozimento das amostras sobre as propriedades das nanoestruturas. Utilizaram-se as técnicas de caracterização de Microscopia de Força Atômica e de difração de Raios-X nas análises morfológicas e estruturais das amostras.
Abstract:	S
Subject:	Nanoestruturas Ponto quântico Difração de raio-X Siliceto de ferro Semicondutores Microscopia de força atômica
language:	Português
Publisher:	Universidade Federal de Minas Gerais
Publisher Initials:	UFMG
Rights:	Acesso Aberto
URI:	http://hdl.handle.net/1843/ESCZ-7AWFLU
Issue Date:	20-Nov-2007
Appears in Collections:	Dissertações de Mestrado

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