Avaliação do efeito dos surfactantes na tensão superficial no processo de flotação

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dc.creatorAndré Luiz Alvarenga Santos
dc.creatorFabiano Rodrigues Tavares
dc.creatorAna Cláudia Franca Gomes
dc.creatorPaulo Roberto de Magalhaes Viana
dc.date.accessioned2022-08-19T17:17:36Z
dc.date.accessioned2025-09-08T23:35:45Z
dc.date.available2022-08-19T17:17:36Z
dc.date.issued2018
dc.format.mimetypepdf
dc.identifier.isbn9789876612890
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/1843/44392
dc.languagepor
dc.publisherUniversidade Federal de Minas Gerais
dc.relation.ispartofJornadas Argentinas de Tratamiento de Minerales
dc.rightsAcesso Aberto
dc.subjectConcentração Micelar Crítica
dc.subjectSurfatantes
dc.subjectMicroflotação
dc.subjectTensão Superficial
dc.titleAvaliação do efeito dos surfactantes na tensão superficial no processo de flotação
dc.title.alternativeEvaluación del efecto de los surfactantes en la tensión superficial en el proceso de flotación
dc.typeArtigo de evento
local.citation.epage204
local.citation.issue14
local.citation.spage196
local.description.resumoA redução da tensão superficial é necessária para manter a espuma estável durante o processo de transporte de partículas minerais da polpa. Embora os estudos de flotação tenham sido feitos com reagentes comerciais que atuam na tensão superficial, pouca ou nenhuma informação sobre estes reagentes está disponível publicamente. A obtenção de dados e estudos aprofundados sobre Concentração Crítica de Micelas (CMC) e Concentração Crítica de Hemi-Micelas (CHMC) poderiam melhorar a aplicação de surfactantes. O objetivo deste trabalho é compreender a influência de aminas com diferentes comprimentos de cadeias hidrocarbônicas (C6, C12 e C16), sulfonatos (C8 e C12), CTAB, oleato de sódio e Flotigan EDA na tensão superficial e no CHMC do sistema reagente/quartzo. Soluções diluídas destes reagentes foram preparadas em concentrações de 1x10-6mol/L a 1mol/L. A tensão superficial foi medida pelo método do anel no tensiômetro K10ST Kruss e o CHMC foi obtido a partir de micro-flotação de quartzo em tubo de Hallimond. As medidas de tensão superficial indicaram que a região polar do surfactante é a principal responsável por reduzir os níveis de tensão superficial de 76mN/m para 37 ou 27mN/m, uma vez que não houve diferenças significativas nos valores de tensão superficial na CMC para uma dada classe de coletores (grupo hidrofílico). O aumento da cadeia hidrocarbônica no surfatante contribui positivamente para diminuir a tensão da interface líquido-gás, atingindo a CMC em concentrações mais baixas. Além disso, há uma correlação direta entre CMC e CHMC para o sistema reagente/quartzo.
local.publisher.countryArgentina
local.publisher.departmentIGC - INSTITUTO DE GEOCIENCIAS
local.publisher.initialsUFMG
local.url.externahttp://www.editorial.unca.edu.ar/Publicacione%20on%20line/TRABAJOS%20COMPLETOS%20JATRAMI%202018/JATRAMI/PDF/19-Santos.pdf

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