Use este identificador para citar o ir al link de este elemento: http://hdl.handle.net/1843/BUBD-9BTRG6
Tipo: Dissertação de Mestrado
Título: A barreira Schottky na interface Al:nGaAs preparada por MBE
Autor(es): Vania Aguiar Moura
primer Tutor: Wagner Nunes Rodrigues
primer miembro del tribunal : Nivaldo Lucio Speziali
Segundo miembro del tribunal: Helio Chacham
Tercer miembro del tribunal: Gerald Weber
Resumen: Este trabalho consiste no estudo do cráter dos estados responsáveis pela determinação da posição de EF na interface ("pinning") entre metal e o semicondutor. Para isso foram preparadas interfaces entre Al e nGaAs (100) crescidas por MBE, sendo a barreira Schottky determinada por medidas elétricas I(V), C(V) para diferentes temperaturas. Como a barreira Schottky mostra-se dependentecdas condições da interface foram feitas medidas de difração de raios-x para determinaçãoda orientação do filme de Al. O caráter dos estados responsáveis pelo "pinning" foi obtido da comparação entre os coeficientes de temperatura de 0B (determinado experimentalmente) e dos máximo e mínimo das bandas de valência e condução, respectivamente. Encontramos que a altura da barreira Schottky é independente da temperatura. Os resultados são discutidos dentro do contexto dos modelos atuais.
Abstract: In onder to study mechanisms of Fermi levei pinnlg we haveprepared Intrerffiices belrween Al and nGaAs(100) by MBE .The Sahottkybarrier for different, sample t.emporatures is then obtained from I(V) andC(V). As the Schottky barrier is dependent, of interface conditions, wehave measured X-ray difraction of the Al film, in order to determine theAl film orietation . The character of pinning states has been interpreted in terms of the temperature coefficient of the band structure of semiconductor. We have observed that the Schottky barrier height is temperature independent and the results are discussed within the context of the current pinning model.
Asunto: Schottky, Diodos de barreira de
Epitaxia por feixe molecular
Feixes moleculares
Física
Idioma: Português
Editor: Universidade Federal de Minas Gerais
Sigla da Institución: UFMG
Tipo de acceso: Acesso Aberto
URI: http://hdl.handle.net/1843/BUBD-9BTRG6
Fecha del documento: 9-mar-1992
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