Utilização da espectroscopia de emissão ótica para o controle automático de plasma em processos de deposição física de vapores
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Editor
Universidade Federal de Minas Gerais
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Tipo
Dissertação de mestrado
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Primeiro orientador
Membros da banca
Sidney Nicodemos da Silva
Frank Sill Torres
Frank Sill Torres
Resumo
A qualidade do produto final de um processo de Deposição Física de Vapores (PVD), com pulverização catódica, depende do controle de parâmetros de máquina como injeção de gases do processo, pressão da câmara de vácuo e potência do gerador de plasma que influenciam características do plasma promotor da pulverização. Um importante parâmetro que interfere em propriedades mensuráveis do plasma é a proporção dos gases usados em sua geração. Dentre tais propriedades mensuráveis, a emissão óptica das espécies ativas no ambiente de plasma pode ser monitorada via espectroscopia de emissão ótica, que permite mensurar a proporção das espécies presentes neste ambiente. Dentro deste contexto, apresenta-se neste trabalho a implementação de sistema para controle automático dos parâmetros de operação do Plasma no processo de Sputtering realizado em um sistema de Deposição Física de Vapores Balzers BAS450-PM, utilizando a espectrometria de emissão ótica. Os resultados indicam robustez e eficiência do modelo e da técnica proposta.
Abstract
The quality of the final product of process of physical vapor deposition (PVD), by sputtering, depends on the control of machine parameters such as gas injection process, pressure of the vacuum chamber and plasma generator power influencing the characteristics of plasma Sputtering. An important parameter that interferes with measurable properties of the plasma is the concentration of gases used in their generation. Among such properties measured, the optical emission of the active species in the plasma environment can be monitored via optical emission spectroscopy, which allows us to measure the proportion of species in this environment. Within this context, will be presented in this paper the implementation of system for automatic control of the process of Plasma Sputtering accomplished in a Physical Vapour Deposition BAS450 using optical emission spectrometry. The results indicate robustness and efficiency of the model and the proposed technique.
Assunto
Engenharia elétrica
Palavras-chave
Engenharia Elétrica